[发明专利]曝光装置和曝光方法有效
| 申请号： | 201310299495.8 | 申请日： | 2013-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN103412466A | 公开（公告）日： | 2013-11-27 |
| 发明（设计）人： | 彭川 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供了一种曝光装置和曝光方法，涉及基板制造领域，可以在有效减小CD偏差的情况下，不影响产品的性能指标。所述曝光装置包括：曝光光源、复眼系统和光学系统，以及两片光阑，所述两片光阑设置在所述复眼系统的入射表面一侧或出射表面一侧，且所述两片光阑相对于所述复眼系统的中心对称设置；其中，所述两片光阑的开口取根据待曝光部件的关键尺寸CD取向调节。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，包括：曝光光源、复眼系统和光学系统，其特征在于，还包括两片光阑，所述两片光阑设置在所述复眼系统的入射表面一侧或出射表面一侧，且所述两片光阑相对于所述复眼系统的中心对称设置；其中，所述两片光阑的开口取向根据待曝光部件的关键尺寸取向调节。
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