[发明专利]包括集成电容器的半导体器件以及制造方法有效

专利信息
申请号: 201310298042.3 申请日: 2013-07-11
公开(公告)号: CN103545309B 公开(公告)日: 2018-06-19
发明(设计)人: P·巴尔;S·若布洛 申请(专利权)人: 意法半导体有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L23/522;H01L23/64;H01L21/02
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明公开一种半导体器件,包括:晶片,包括衬底晶片(11)并且具有前部面(11a)和朝向后部打开的后部孔(55),并且所述后部孔(55)至少部分地形成在所述衬底晶片(11)中并且具有底部(58),以及柱体(56,57)形式的多个电容器(C1,C2),其关于所述后部孔(55)的所述底部(58)朝向突出到所述后部孔(55)中的所述后部行进并且其彼此分离,每个电容器包括:内导电层或者部分(32,33;37,38),形成内电极(Eint)并且具有前部电连接表面(26a,28a),外导电层(30,35),形成外电极(Eext)并且具有处于所述后部孔中的后部电连接表面,以及在所述内层和所述外层之间的中间电介质层(31,36),形成在所述电极之间的分离层(Cs)。
搜索关键词: 电容器 半导体器件 电连接表面 衬底晶片 中间电介质层 集成电容器 彼此分离 内导电层 外导电层 分离层 内电极 前部面 外电极 电极 晶片 内层 前部 柱体 行进 制造
【主权项】:
1.一种半导体器件,包括:晶片,包括衬底晶片(11)并且具有前部面(11a)和朝向后部打开的后部孔(55),并且所述后部孔(55)至少部分地形成在所述衬底晶片(11)中并且具有底部(58),以及柱体(56,57)形式的多个电容器(C1,C2),其关于所述后部孔(55)的所述底部(58)朝向突出到所述后部孔(55)中的所述后部行进并且其彼此分离,每个电容器包括:内导电层或者部分(32,33;37,38),形成内电极(Eint)并且具有前部电连接表面(26a,28a),导电外层(30,35),形成外电极(Eext)并且具有处于所述后部孔中的后部电连接表面,以及在所述内导电层和所述外层之间的中间电介质层(31,36),形成在所述电极之间的分离层(Cs)。
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