[发明专利]两维MoS2激光脉冲调制器件及全固态激光用脉冲调制激光器

摘要

本发明涉及两维MoS2脉冲调制器件及全固态激光用脉冲调制激光器。所述MoS2脉冲调制器件包括衬底和沉积在衬底上的MoS2材料,衬底厚度为0.5～2mm；MoS2材料厚度为1-50nm；可用于对产生可见光、红外或紫外的激光进行调Q或锁模；所述的全固态激光用脉冲调制激光器包括泵浦源，前腔镜，激光增益介质，MoS2调制器件，输出镜；将所述的MoS2调制器件置于所述谐振腔内，制成调Q器件或锁模器件的激光器；所述的激光增益介质是半导体、激光晶体、激光陶瓷或者激光玻璃。本发明的脉冲调制器件具有制作简单、可实现波长较大范围内激光的调节、有利于产业化生产等特点。

主权项

一种MoS2脉冲调制器件，包括衬底和沉积在衬底上面的MoS2材料，所述衬底选自石英衬底或蓝宝石衬底；所述衬底厚度为0.5～2mm；所述沉积在衬底上面的MoS2材料厚度为1‑50nm。