[发明专利]用于化学气相沉积的进气口元件及其制造方法有效
申请号: | 201310276212.8 | 申请日: | 2009-12-03 |
公开(公告)号: | CN103352206A | 公开(公告)日: | 2013-10-16 |
发明(设计)人: | 米哈伊尔·贝鲁索夫;博扬·米特洛维克;耿·莫伊 | 申请(专利权)人: | 威科仪器有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 黎艳 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 用于化学气相沉积反应器(10)的进气口元件由多个长形的管状元件(64,65)构成,该多个长形的管状元件相互肩并肩地设置在一个垂直于反应器上下游方向的平面上。所述管状元件具有用于沿下游方向排放气体的进气口。晶片载体(14)绕着上游至下游的轴旋转。气体分布元件可以提供这样的气体分布模式:气体分布关于延伸穿过所述轴的中间平面(108)为非对称。 | ||
搜索关键词: | 用于 化学 沉积 进气口 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种化学气相沉积反应器,其特征在于,包括:(a) 具有上游和下游方向的反应室;(b) 载体支撑件,用于在反应室内的载体位置处支撑晶片载体,使载体能够围绕延伸于上游和下游方向的轴旋转;(c) 在载体位置的上游处安装至反应室的进气口元件,所述进气口元件具有沿着X和Y水平方向延伸的气体分布表面,所述X和Y水平方向相互垂直、且垂直于下游方向,所述进气口元件具有多个长形进气口,用于将气体排入反应室,所述长形进气口相互平行地延伸,并在X水平方向上穿过气体分布表面,且穿过反应器的Y方向中间平面延伸,所述长形进气口包括多个用于排放第一反应气体的第一进气口和多个用于排放第二反应气体的第二进气口,所述第一进气口在Y水平方向上相互间隔地设置,所述第二进气口在Y水平方向上相互间隔地设置,并与第一进气口穿插。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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