[发明专利]微光刻投射曝光设备的照明系统有效
| 申请号： | 201310276200.5 | 申请日： | 2008-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN103345128B | 公开（公告）日： | 2017-04-12 |
| 发明（设计）人： | 斯蒂芬.泽尔特;关彦彬;安德拉斯.G.梅杰;曼弗雷德.莫尔;约翰尼斯.艾森门格;达米安.菲奥尔卡;简.霍恩;马库斯.德冈瑟;弗洛里安.巴赫;迈克尔.帕特拉;约翰尼斯.万格勒;迈克尔.莱 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统(12)，包括光瞳面和由优选地可单独控制、用于光瞳面可变地照明的射束偏转元件(28)组成的基本上平面状的布置。可以根据施加在射束偏转元件(28)上的控制信号，通过每个射束偏转元件(28)使得入射到它上的投射光束(32)产生偏转。测量照明装置(54、56、58、60；88；90；98)将与投射光束(32)无关的测量光束(36)被引导到射束偏转元件(28)上。检测装置检测在射束偏转元件(28)上偏转后的测量光束(38)。评估单元根据检测装置提供的测试信号确定投射光束(32)的偏转。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 投射 曝光 设备 照明 系统 | ||
【主权项】：
一种微光刻投射曝光设备的照明系统，包括：a)由可单独控制的射束偏转元件组成的平面状布置，所述布置构造成为光瞳面可变地照明，其中，每个射束偏转元件根据施加到射束偏转元件上的控制信号偏转入射投射光束，b)构造成产生测量信号的测量装置，c)基于模型的状态估算器，对于每个射束偏转元件，所述状态估算器构造成利用测量信号计算估计的状态矢量，该状态矢量体现由射束偏转元件引起的投射光束的偏转及其时间导数，d)调节器，对于每个射束偏转元件，所述调节器构造成所述基于模型的状态估算器估算的状态矢量和由射束偏转元件引起的投射光束的偏转及其时间导数的设定值可输入到所述调节器，其中，所述调节器进一步构造成，借助所述调节器通过控制参数能够控制施加在射束偏转元件上的控制信号，其中所述控制参数由调节算法计算，调节差矢量传输给所述调节算法，所述调节差矢量由调节差和所述调节差的时间导数构成。
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