[发明专利]光刻系统、传感器和测量方法有效

专利信息
申请号: 201310250576.9 申请日: 2006-09-14
公开(公告)号: CN103354201A 公开(公告)日: 2013-10-16
发明(设计)人: 彼得·克勒伊特;马尔科·扬·哈科·威兰;埃尔温·斯洛特;蒂斯·弗兰斯·泰佩恩;斯泰恩·威廉·卡雷尔·赫尔曼·斯腾布林克 申请(专利权)人: 迈普尔平版印刷IP有限公司
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317;H01J37/244;B82Y40/00
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 张英;刘书芝
地址: 荷兰代*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及光刻系统、传感器和测量方法。本发明涉及测量带电粒子束系统的大量带电粒子束(4)特性的方法,方法步骤:在扫描期间在一个方向上经多个锐边扫描各个带电粒子束(4),其中锐边是多个阻挡元件(6)的部分使得通过已知偏移阻挡元件包括在相对于转换器元件和带电粒子束的已知位置;用转换器元件(1)将带电粒子束(4)转换成为光束(5);使用与转换器元件(1)共线设置的光敏检测器阵列(3)检测光束;在检测器曝露于光束(5)以后从检测器(3)中电子地读出所产生的信号,以提供各个束的一组测量数据;对于各个带电粒子束,从该组的测量数据数学上推导拟合迹线;以及基于拟合迹线确定各个带电粒子束的至少一个特性。
搜索关键词: 光刻 系统 传感器 测量方法
【主权项】:
一种测量带电粒子束系统的大量带电粒子束(4)的至少一个特性的方法,所述方法包括以下步骤:‑在至少一个扫描期间在一个方向上经多个锐边扫描各个所述带电粒子束(4),其中所述锐边是多个阻挡元件(6)的部分使得通过一种或多种已知偏移所述阻挡元件包括在相对于转换器元件和所述带电粒子束的已知位置,‑通过利用所述转换器元件(1),将所述带电粒子束(4)转换成为光束(5),‑使用与所述转换器元件(1)共线设置的光敏检测器阵列(3),用于检测所述光束,‑在所述检测器曝露于所述光束(5)以后,从所述检测器(3)中电子地读出所产生的信号,以提供各个束的一组测量数据,‑对于各个带电粒子束,从所述组的测量数据数学上推导拟合迹线;以及‑基于所述拟合迹线,确定各个带电粒子束的所述至少一个特性。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于迈普尔平版印刷IP有限公司,未经迈普尔平版印刷IP有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310250576.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top