[发明专利]一种集成电路版图验证中的小单元层次结构调整方法

摘要

本发明公布了一种集成电路版图验证中的图形结构调整方法，所属的技术领域是集成电路计算机辅助设计领域，尤其是涉及集成电路版图的设计规则检查（DRC）领域。本方法的基本步骤如下首先对于版图中出现的符合一定条件的小层次单元采用单元选择方法，对层次结构调整的目标层次单元和源层次单元进行选择。其次采用单元结构调整方法，对选择出的源单元和目标单元进行层次结构调整，达到优化版图层次结构，进而优化版图规则验证的目的。

主权项

一种集成电路版图验证中的图形结构调整方法，包含以下步骤：①对于版图中出现的符合一定条件的小单元采用单元选择方法，对层次结构调整的候选目标单元和候选源单元进行选择；②采用单元结构调整方法，对选择出的候选源单元和候选目标单元进行层次结构调整，达到优化版图层次结构，进而优化版图规则验证的目的；所述步骤①，进一步包括以下步骤：首先，选择在版图中存在唯一实例的层次单元作为候选目标单元；其次，依次选择小单元作为候选源单元；对于以单一实例形式存在的源单元实例，直接作为候选源单元实例；对以阵列形式存在的源单元实例首先进行扫描，判定其与候选目标单元的位置投影关系并以此进行划分；将划分后的被候选目标单元覆盖的源单元阵列作为候选源单元阵列。