[发明专利]用于奇数个处理模块的均等气体分配的系统、方法及装置

摘要

一种用于奇数个处理模块的均等气体分配的系统、方法及装置。用于将不同的处理气体供应至使用期望数量个质量流量控制器（MFC）的奇数个处理室的管道布置。该管道布置可以实现并且确保到奇数个处理室的均匀气体分配。此外，该管道布置被配置成将气体盒与多个真空处理模块（PM）连接并且包括用于处理气体供应的管道部分和用于H2O供应的管道部分。管道布置可以实施成不具有任何孔。

主权项

一种装置，包括：奇数个三个或更多个处理模块，其被配置成根据处理衬底的暴露表面的实质上相同的处理条件来进行操作，所述处理条件包括到每个处理模块的处理气体的流量；以及第一气体管道分支网络，其被布置成使所述处理气体的第一组分流动至所述奇数个三个或更多个处理模块中的每一个处理模块，其中所述第一气体管道分支网络包括：第一共用入口点，所述处理气体的所述第一组分从所述第一共用入口点被分配至所述奇数个三个或更多个处理模块，所述第一共用入口点耦接到至少一个质量流量控制器的出口，以及多个分支，其具有相对于相邻处理模块上的第一相同参考点之间的间距而设计的管道长度，使得所述处理气体的基本上均等流量的所述第一组分从所述第一共用入口点传递至所述奇数个三个或更多个处理模块中的每一个处理模块处的排放点。