[发明专利]一种后处理工艺过程中羰基化合物分析方法无效
| 申请号： | 201310242027.7 | 申请日： | 2013-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN103335964A | 公开（公告）日： | 2013-10-02 |
| 发明（设计）人： | 苏哲;李辉波;丛海峰;宋凤丽;刘占元;王孝荣;袁洁琼 | 申请（专利权）人： | 中国原子能科学研究院 |
| 主分类号： | G01N21/31 | 分类号： | G01N21/31 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 102413 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种后处理工艺过程中羰基化合物分析方法，属于溶剂辐解产物化学分析技术领域。本发明所述的方法以十一酮类为标准物质，用高纯乙醇稀释标准物质或样品，然后与酸性2,4－二硝基苯肼-乙醇-水溶液在室温下反应，再用KOH-乙醇-水溶液定容，显色，用分光光度计在羰基化合物吸收曲线的波谷处进行比色分析。本发明所述的方法适合后处理流程中辐解产生的羰基化合物的分析，减少吸收峰偏移造成的较大误差，避免操作人员对甲醇的接触，整个过程在室温下进行，避免了水浴加热。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 处理 工艺 过程 羰基 化合物 分析 方法 | ||
【主权项】：
一种后处理工艺过程中羰基化合物分析方法，包括以下步骤：以十一酮类为标准物质，用高纯乙醇稀释标准物质或样品，然后与酸性2,4－二硝基苯肼‑乙醇‑水溶液在室温下反应，再用KOH‑乙醇‑水溶液定容，显色，用分光光度计在羰基化合物吸收曲线的波谷488‑492nm处进行比色分析。
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