[发明专利]大面积有机发光二极管显示器及其制造方法有效
申请号: | 201310228807.6 | 申请日: | 2013-06-08 |
公开(公告)号: | CN103887319B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | 金英美;许峻瑛;李妍景;朴容敏 | 申请(专利权)人: | 乐金显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/50;H01L51/52 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 | 代理人: | 徐金国,钟强 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种大面积有机发光二极管显示器及其制造方法。横跨显示器的第一和第二像素区域沉积光刻胶。通过剥离位于所述第一像素区域中的第一部分光刻胶而保留位于所述第二像素区域中的第二部分光刻胶,将所述光刻胶构图以产生图案化的光刻胶。在所述图案化的光刻胶上方横跨所述第一和第二像素区域沉积有机发光层。在所述有机发光层上方横跨所述第一像素区域和第二像素区域沉积电子传输层。通过剥离所述第二部分光刻胶去除位于所述第二像素区域中的部分有机发光层和电子传输层,同时保留位于所述第一像素区域中的部分有机发光层和电子传输层。 | ||
搜索关键词: | 大面积 有机 发光二极管 显示器 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种制造具有像素区域矩阵的有机发光二极管显示器的方法,所述像素区域矩阵至少包括第一像素区域和第二像素区域,所述方法包括:横跨所述第一像素区域和第二像素区域沉积公共空穴注入层;在所述公共空穴注入层上横跨所述第一像素区域和第二像素区域沉积光刻胶;通过剥离位于所述第一像素区域中的第一部分光刻胶而保留位于所述第二像素区域中的第二部分光刻胶,将所述光刻胶构图为图案化的光刻胶;横跨所述第一像素区域和第二像素区域沉积有机发光层,所述有机发光层沉积在位于所述第二像素区域中的图案化的光刻胶上方;在所述有机发光层上方横跨所述第一像素区域和第二像素区域沉积电子传输层;在所述有机发光层上方横跨所述第一像素区域和第二像素区域沉积阴极层;通过剥离所述第二部分光刻胶去除位于所述第二像素区域中的部分有机发光层、电子传输层和阴极层,同时保留位于所述第一像素区域中的部分有机发光层、电子传输层和阴极层;以及横跨所述第一像素区域和第二像素区域沉积公共阴极层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的