[发明专利]用于渲染受影响的像素的系统和方法有效

专利信息
申请号: 201310193460.6 申请日: 2013-05-23
公开(公告)号: CN103426163B 公开(公告)日: 2017-04-12
发明(设计)人: A·大卫德森;P·哈瓦尔德;P·帕洛姆毕;J·维尔斯 申请(专利权)人: 索尼公司;索尼图片技术股份有限公司
主分类号: H04N13/00 分类号: H04N13/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 罗银燕
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开涉及用于渲染受影响的像素的系统和方法。提供了用于使重投影伪像最小化的系统和方法。从重投影方法,畸变图确定像素的过量伸展或压缩的区域,这些区域然后被渲染。重投影和渲染被合成以创建新的立体图像。还提供了用于“深度布局”处理的系统和方法,由此创建2D板的新偏移视图,从而允许图像的立体对。近似于场景的定制几何图形被创建,并且使用2D动态遮罩从几何图形切出形状。深度图被创建,从该深度图可重投影偏移图像,从而得到立体对。还提供了用于快速重投影技术的系统和方法,该快速重投影技术从现有图像创建新颖的视图。该处理产生差异图并然后产生畸变图,该畸变图然后被用于创建新的视图。
搜索关键词: 用于 渲染 影响 像素 系统 方法
【主权项】:
一种用于基于第一图像创建希望的第二图像的方法,包括:a.从与第一照相机视图对应的第一照相机角度接收第一图像,第一图像包含至少一个三维模型化对象,所述三维模型化对象到观察面的距离是已知的或者是能够确定的;b.从对应于第二照相机视图的与第一照相机角度不同的第二照相机角度创建所述三维模型化对象的第二图像;c.在第二图像中确定第二图像中表现不令人满意的至少一个像素组,确定所述至少一个像素组是否形成孔、或者是否被伸展或者压缩大于预定量以补救孔,并且利用畸变图产生模块确定在第二图像中像素被伸展或压缩了多少,并且如果像素被伸展或压缩了大于相应的预定阈值,则将所述像素选择为处于所述像素组中;d.渲染第二图像中表现不令人满意的所述像素组;以及e.用经渲染的像素替代第二图像中表现不令人满意的所述像素组以创建希望的第二图像,并且其中,创建第二图像包括使用重投影,所述重投影包括:i.选择第二照相机视图的位置;ii.创建指示第一照相机视图与第二照相机视图之间的差别的差异图;iii.基于差异图创建指示像素变换的畸变图;以及iv.通过将畸变图应用到第一图像的像素来创建第二图像。
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