[发明专利]用于磁共振成像系统的涡流补偿方法有效
| 申请号： | 201310193344.4 | 申请日： | 2013-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN104181479A | 公开（公告）日： | 2014-12-03 |
| 发明（设计）人： | 蔡昆玉;林时顷;张强;黄文慧;贾二维 | 申请（专利权）人： | 上海联影医疗科技有限公司 |
| 主分类号： | G01R33/387 | 分类号： | G01R33/387 |
| 代理公司： | 无 | 代理人： | 无 |
| 地址： | 201815 上海市嘉*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种用于磁共振成像系统的涡流补偿方法，包括以下步骤：建立涡流一阶残留场及高阶场模型；利用磁共振成像系统，对样品施加涡流测量序列以获得梯度磁场产生的第一涡流场，由所述第一涡流场对所述涡流一阶残留场及高阶场模型中的校正参数进行拟合，从而得到标定的涡流一阶残留场及高阶场模型；在实际测试时，利用标定的涡流一阶残留场及高阶场模型对重建的图像进行校正。该方法利用涡流一阶残留场及高阶场模型对重建的图像进行校正，提高了图像质量。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 磁共振 成像 系统 涡流 补偿 方法 | ||
【主权项】：
一种用于磁共振成像系统的涡流补偿方法，其特征在于，包括以下步骤：a.建立涡流一阶残留场及高阶场模型；b.利用磁共振成像系统，对样品施加涡流测量序列以获得梯度磁场产生的第一涡流场，由所述第一涡流场对所述涡流一阶残留场及高阶场模型中的校正参数进行拟合，从而得到标定的涡流一阶残留场及高阶场模型；c.在实际测试时，利用上述标定的涡流一阶残留场及高阶场模型对重建的图像进行校正。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海联影医疗科技有限公司;，未经上海联影医疗科技有限公司;许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310193344.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
