[发明专利]反应腔无效
申请号: | 201310192705.3 | 申请日: | 2013-05-22 |
公开(公告)号: | CN103266307A | 公开(公告)日: | 2013-08-28 |
发明(设计)人: | 仁君;谭华强 | 申请(专利权)人: | 光垒光电科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/455 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 200050 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种反应腔。包括腔体内衬、冷却腔体和吹扫结构,所述吹扫结构包括从所述冷却腔体外穿过所述冷却腔体的第一进气管,所述第一进气管朝向腔体内衬一端具有出气口,从所述第一进气管的出气口到所述腔体内衬面向所述冷却腔体的表面最短距离的连线方向为第一方向,吹扫气体从所述出气口导出的方向为第二方向,由于第二方向与第一方向成夹角,可以延长吹扫气体扩散路径,且使得接触内衬的面积也增大,减少了降温的效果,从而减少了腔体内衬局部温度过低的情况发生,能够形成均匀的气流场,同时能够使得腔体内衬与冷却腔体内壁之间的空间得到保护并且维持平稳,有利于维持反应的正常进行。 | ||
搜索关键词: | 反应 | ||
【主权项】:
一种反应腔,包括腔体内衬和冷却腔体,所述腔体内衬套设在所述反应腔内并围绕反应腔的反应区域;所述反应腔还包括吹扫结构,所述吹扫结构用于向所述冷却腔体与所述腔体内衬之间的空间通入吹扫气体;其特征在于:所述吹扫结构包括从所述冷却腔体外穿过所述冷却腔体,延伸到所述冷却腔体与所述腔体内衬之间的空间的第一进气管,所述第一进气管朝向腔体内衬一端具有出气口,从所述第一进气管的出气口到所述腔体内衬面向所述冷却腔体的表面最短距离的连线方向为第一方向,吹扫气体从所述出气口导出的方向为第二方向,所述第一方向与所述第二方向成夹角。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的