[发明专利]制造壳体框架的方法和采用壳体框架的电子设备无效
申请号: | 201310104713.8 | 申请日: | 2013-03-28 |
公开(公告)号: | CN103369884A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 黄昶渊;安承镐;李弼雨 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H05K5/00 | 分类号: | H05K5/00;B44F9/00;B44C1/24;B44C1/22 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王波波 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种制造壳体框架的方法,通过制造过程从外观和纹理(感觉)上模仿真实材料。在所述方法中,以与所应用的产品相对应的形状来形成壳体框架。使用涂敷于所形成的壳体框架的表面的材料的颜色来形成第一涂料层。在第一涂料层的上部形成图案印制层,所述图案印制层与相关材料的纹理图案相对应。形成第二涂料层,使得适当地表现第一涂料层和图案印制层的图案,其纹理模仿相关材料。图案印制层还形成在第一涂料层的上部,使得更加真实地模仿相关材料的纹理。 | ||
搜索关键词: | 制造 壳体 框架 方法 采用 电子设备 | ||
【主权项】:
一种用于制造壳体框架的方法,所述方法包括:以与所应用的产品相对应的形状来形成壳体框架;形成第一涂料层,第一涂料层涂敷于所形成的壳体框架的表面,具有与要模仿的相关材料对应的颜色;在第一涂料层的上部形成图案印制层,所述图案印制层与对所述相关材料的纹理加以模仿的纹理图案相对应;以及形成第二涂料层,使得第一涂料层和图案印制层的图案被布置为提供与所述相关材料的纹理对应的仿制材料的纹理。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310104713.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。