[发明专利]一种改善平面靶镀膜均匀性的屏蔽罩有效
| 申请号： | 201310097044.6 | 申请日： | 2013-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN103132044A | 公开（公告）日： | 2013-06-05 |
| 发明（设计）人： | 李毅 | 申请（专利权）人： | 深圳市创益科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/35 |
| 代理公司： | 深圳市毅颖专利商标事务所 44233 | 代理人： | 张艺影 |
| 地址： | 518029 广东省深圳市福田区深南大道*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种磁控溅射镀膜机平面靶的屏蔽罩带气流挡板，用来改善镀膜均匀性，属于薄膜太阳能电池技术领域。本发明目的是提供一种PVD镀膜机用的能够改善镀膜均匀性的屏蔽罩装置和屏蔽方法，以求改善镀膜均匀性提高薄膜太阳能电池的转换效率。本发明的技术特征屏蔽罩（10）有保护气管（9）上气流小孔气的气流挡板（11）使气流充分混合的的疏流装置。方法是用屏蔽罩（10）上带有气流挡板（11），其间有一小长狭缝，用气流挡板（11）合围气管（9）保护其上的小孔不被轰击。本发明显著的改善了膜层的均匀性和镀膜质量。提高了镀膜机的镀膜质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改善 平面 镀膜 均匀 屏蔽 | ||
【主权项】：
一种改善平面靶镀膜均匀性的屏蔽罩，包括真空腔体，平面靶及基片，其特征在于屏蔽罩（10）上有一个气流疏流装置，该装置保护气管（9）上出气的小气孔,所说的屏蔽罩（10）与气流疏流装置之间有一条狭长的朝向靶材（12）的缝隙（R）。
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