[发明专利]曝光装置以及图像形成装置无效

专利信息
申请号: 201310096399.3 申请日: 2013-03-25
公开(公告)号: CN103364946A 公开(公告)日: 2013-10-23
发明(设计)人: 久保信秋;鸨田才明;酒井浩司;渡边直人;中岛智宏;石山赖史 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: G02B26/10 分类号: G02B26/10;G03G15/04
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 赵蓉民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及曝光装置以及图像形成装置,其目的在于提供一种能够改善机械性外来不利影响抵抗强度的曝光装置。本发明的曝光装置具备光学框体(2300),该光学框体(2300)的底板(2301)表面和底板(2301)背面上分别形成多条以等间隔排设的漕(2307a),底板表面的漕(2307a)的中心位置与底板背面的漕(2307a)的中心位置之间互相偏离,偏离量为漕间间隔的1/2倍。对于薄型化光学框体,该结构不仅不会带来重量增加和原料费用上升,而且有利于提高光学框体的抗振性能,进而改善光扫描装置的机械性外来不利影响抵抗强度。
搜索关键词: 曝光 装置 以及 图像 形成
【主权项】:
一种曝光装置,其中包括光源、将该光源发射的光引导到被曝光装置的光学系统、以及以多块板形部件构成并用于保持所述光源和所述光学系统的光学框体,其特征在于,在所述光学框体中的至少一块板形部件的至少一部分表面以及一部分背面上分别形成多条以预定间隔排设的漕,在该多条漕的排设方向上,所述表面上形成的所述漕的中心位置与所述背面上形成的所述漕的中心位置互相偏离。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社理光,未经株式会社理光许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310096399.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top