[发明专利]图案化的线端空间

摘要

本发明提供了一种或多个种形成线端空间结构的系统。在一些实施例中，在第一HM区域之上形成第一图案化的第二硬掩模(HM)区域。在一些实施例中，在第一图案化的第二HM区域或第一HM区域中的至少一个之上形成第一牺牲HM区域和第二牺牲HM区域。在第二牺牲HM区域之上图案化光刻胶(PR)，而且在PR和第二牺牲HM区域之上沉积隔离件区域。在一些实施例中，隔离件区域、PR或哥哥牺牲HM中的至少一个的至少一些被去除。相应地，第一图案化的第二硬掩模(HM)区域被图案化，由此形成了与端到端空间相关的线端空间结构。本发明还提供了一种图案化的线端空间。

主权项

一种用于形成线端空间结构的方法，包括：基于第一图案化的第一光刻胶(PR)区域形成与第一图案位置相关的第一图案化的第二硬掩模(HM)区域；在所述第一图案化的第二HM区域或第一HM区域中的至少一个的至少一些之上形成第一牺牲HM区域；在至少一些所述第一牺牲HM区域之上形成第二牺牲HM区域；在至少一些所述第二牺牲HM区域之上形成第一图案化的第二PR区域或第二图案化的第二PR区域中的至少一个，所述第一图案化的第二PR区域与第一线位置相关，所述第二图案化的第二PR区域与第二线位置相关；在所述第一图案化的第二PR区域、所述第二图案化的第二PR区域或所述第二牺牲HM区域中的至少一个的至少一些之上形成隔离件区域；以及去除至少一些所述第一图案化的第二HM区域。