[发明专利]基板处理装置及基板处理方法

摘要

本发明提供一种处理基板的基板处理装置和基板处理方法。基板处理装置具有：第一处理液供给部，其向基板的上表面的中央部供给第一处理液；基板旋转机构，其使基板旋转；气体供给部及抽吸部，其变更腔室的内部空间的压力。在基板处理装置中，在使腔室的内部空间处于减压环境的状态下，通过一边使基板旋转，一边向基板的上表面供给第一处理液，来使第一处理液在上表面上从中央部向外周部快速扩散。由此，与在常压下相比，能够在更短的时间内利用第一处理液覆盖基板的上表面。另外，利用抽吸部来从基板的边缘附近抽吸第一处理液，由此能够在更短的时间内利用第一处理液覆盖基板的上表面。其结果，能够缩短处理基板所需的时间。

主权项

一种基板处理装置，用于处理基板，其特征在于，具有：基板保持部，其在使基板的主面朝向上侧的状态下保持所述基板；处理液供给部，其向所述基板的所述主面的中央部供给处理液；基板旋转机构，其使所述基板与所述基板保持部一起旋转；腔室，其在内部空间容置所述基板保持部；压力变更部，其变更所述腔室的所述内部空间的压力；控制部，其通过对所述处理液供给部、所述基板旋转机构及所述压力变更部进行控制，来在使所述腔室的所述内部空间处于减压环境的状态下，一边使所述基板旋转，一边向所述主面供给所述处理液，由此利用所述处理液覆盖所述主面。