[发明专利]一种原子层沉积设备

摘要

本发明公开了一种原子层沉积的设备，其是由盖板和主体腔室构成的可开闭的封闭腔室；所述盖板内表面设置有气路单元，所述气路单元包括多个气流通道，所述多个气流通道通过间隔层相间隔，且每个所述气流通道与盖板的外表面上设置的多个气孔相连通；所述主体腔室包括可旋转承载盘和传动系统，所述传动系统带动所述可旋转承载盘进行旋转，所述可旋转承载盘上设置有放置晶片的凹槽；其中，所述多个气流通道至少包括第一气流通道和第二气流通道，所述第一气流通道用于通入反应源气体，所述第二气流通道用于将未发生反应的反应源气体抽出。该设备能够提高原子层外延的速度，节省单项工艺时间。通过提高承载盘的转速，可以提高原子层外延的生长速率。

主权项

一种原子层沉积设备，其是由盖板和主体腔室构成的可开闭的封闭腔室；所述盖板内表面设置有气路单元，所述气路单元至少包括第一气流通道和第二气流通道，且所述第一气流通道和第二气流通道通过间隔层相间隔，且每个所述气流通道均有气孔与外部相连；所述主体腔室包括可旋转承载盘和传动系统，所述传动系统带动所述可旋转承载盘进行旋转，所述可旋转承载盘上设置有放置晶片的凹槽。