[发明专利]基于苯并二噻吩和苯并三噻吩的半导体共轭聚合物及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310069971.7 申请日: 2013-03-05
公开(公告)号: CN103172837A 公开(公告)日: 2013-06-26
发明(设计)人: 张国兵;李朋;肖旭;马敬轩;吕国强 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: C08G61/12 分类号: C08G61/12;C07D519/00
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 代理人: 余成俊
地址: 230009 *** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种基于苯并二噻吩和苯并三噻吩的半导体共轭聚合物及其制备方法。该共轭聚合物结构式为:其中,R1为C8-C20烷烃链;R2为C7-C19烷烃链,n≥1。该制备方法为以苯并二噻吩双锡单体,苯并三噻吩双溴单体在Stille反应条件下共聚反应,得到全共轭聚合物。本发明是结合苯并二噻吩和苯并三噻吩这两种单元的优点,提供一种可溶性的基于这两种单元的半导体共轭聚合物,本发明的半导体共轭聚合物具有新颖的刚性平面的大π共轭的可溶的苯并二噻吩和苯并三噻吩单元和柔性促溶的烷基链,是可溶液加工的共轭聚合物。本发明分子设计合理,聚合物具有好的分子排列,有望得到高的载流子迁移率并应用于有机光电领域。
搜索关键词: 基于 噻吩 半导体 共轭 聚合物 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种基于苯并二噻吩和苯并三噻吩的半导体共轭聚合物 ,其特征在于,所述聚合物的结构式为:    其中,R1为C- C20烷烃链;R2为C- C19烷烃链,n≥1。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥工业大学,未经合肥工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310069971.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top