[发明专利]与成像的高强度聚焦超声配准

摘要

本发明涉及与成像的高强度聚焦超声配准。将高强度聚焦超声（HIFU）与成像进行配准。由分离的成像系统（40）检测（16）来自HIFU换能器（32）的发射的效应（例如温度的上升）。通过使用多个发射（12），在成像坐标系内确定（16）来自HIFU换能器的发射的多个位置。根据检测到的效应来确定（20）使成像系统（40）坐标与HIFU换能器坐标相关的变换。该变换可以用于使在成像系统（40）的图像中指示的位置与针对HIFU的应用的HIFU换能器（32）的坐标相关（26）。成像系统（40）可能不必对HIFU换能器或基准进行扫描，并且可能不需要固定的关系。

主权项

一种将高强度聚焦超声（HIFU）与成像进行配准的方法，所述方法包括：从HIFU系统（42）将高强度聚焦超声波形的样本发射（12）至患者的第一区域，所述样本具有与该波形不同的幅度、持续时间或者幅度和持续时间二者；利用成像系统（40）对患者的第一区域进行扫描（14）；检测（16）由于所述样本而引起的响应，所述检测（16）根据所述扫描（14）而进行；计算（20）HIFU系统（42）的坐标与所述成像系统（40）的坐标之间的变换，所述变换是如由响应检测到的向所述第一区域的发射所导致的所述响应的第一位置的函数；显示（22）所述成像系统（40）的图像；接收（24）相对于所述图像的医治位置的用户输入；利用所述变换将所述医治位置变换（26）成HIFU系统（42）的坐标；以及发射（28）作为HIFU系统（42）的坐标中的医治位置的函数而聚焦的波形。