[发明专利]激光离子源

摘要

本发明提供能不破坏真空条件地进行靶的补给的激光离子源。离子生成真空容器（110）被真空排气，被输送并配置通过激光的照射发生离子的靶（112）。阀（130）设置在离子生成真空容器（110）的侧面，在向离子生成真空容器110内输送靶（112）时打开，在输送时以外关闭。靶补给容器（120）通过阀（130）安装于离子生成真空容器（110），将靶（112）能移动地保持，能与离子生成真空容器（110）独立地真空排气。保持在靶补给容器（120）内的靶（112），在关闭了阀（130）的状态下将靶补给容器内真空排气之后，在打开了阀（130）的状态下被输送到离子生成真空容器（110）内。

主权项

一种激光离子源，其特征在于，具备：真空容器，被真空排气，被输送并配置靶，上述靶通过激光的照射发生离子；阀，设置在上述真空容器的侧面，向上述真空容器内输送靶时开放，上述输送时以外闭塞；靶补给容器，通过上述阀安装于上述真空容器，将上述靶能移动地保持，与上述真空容器独立地真空排气；及输送构件，在关闭了上述阀的状态下上述靶补给容器内被真空排气之后，在打开了上述阀的状态下将保持在上述靶补给容器内的上述靶输送到上述真空容器内。