[发明专利]一种以冷喷涂方法制备的难熔金属旋转溅射靶材无效

专利信息
申请号: 201310040149.8 申请日: 2013-02-01
公开(公告)号: CN103060793A 公开(公告)日: 2013-04-24
发明(设计)人: 庄志杰 申请(专利权)人: 基迈克材料科技(苏州)有限公司
主分类号: C23C24/04 分类号: C23C24/04;C23C14/34
代理公司: 上海宏威知识产权代理有限公司 31250 代理人: 郭春远
地址: 215214 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种以冷喷涂方法制备的难熔金属旋转溅射靶材,采用冷喷涂方法制备难熔金属旋转溅射靶材,基管为不锈钢管,喷涂用难熔金属粉纯度≥99.95%,粒度:150~500目,冷喷涂喷嘴进口处工作气压力为2~3Mpa,温度300~500℃;工作气加热到500~850℃,增压至3.0~3.5Mpa;采用N2为工作气,N2流量为28~60米3/时;最后获得靶材靶材厚度6~9毫米,靶材密度95~98%,纯度≥99.95%,含氧量≤1000ppm。同时,由于喷涂较低涂层发生相变的驱动力较小,不易出现大长度粉体晶粒,比等离子喷涂形成的靶材具备更加良好细微的粒度,靶材品质大幅度提升。
搜索关键词: 一种 喷涂 方法 制备 金属 旋转 溅射
【主权项】:
一种以冷喷涂方法制备的难熔金属旋转溅射靶材,其特征是:采用冷喷涂方法制备难熔金属旋转溅射靶材,基管为不锈钢管,喷涂用难熔金属粉纯度≥99.95%,粒度:150~500目,冷喷涂喷嘴进口处工作气压力为2~3Mpa,温度300~500℃;工作气加热到500~850℃,增压至3.0~3.5Mpa;采用N2为工作气,N2流量为28~60米3/时;最后获得靶材靶材厚度6~9毫米,靶材密度95~98%,纯度≥99.95%,含氧量≤1000ppm。
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