[发明专利]光刻照明系统有效

专利信息
申请号: 201310030574.9 申请日: 2013-01-25
公开(公告)号: CN103092006A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 曾爱军;朱玲琳;方瑞芳;黄惠杰 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B27/09;G02B3/00
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯
地址: 201800 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种光刻照明系统,包括激光光源,沿激光光源的激光前进方向依次是准直扩束单元、光瞳整形单元、第一微透镜阵列、微积分棒阵列、微扫描狭缝阵列、第二微透镜阵列、聚光镜组和掩膜,运动控制单元控制所述的微扫描狭缝阵列的运动,本发明光刻照明系统减小了扫描狭缝的扫描行程和速度,降低了扫描狭缝振动带来的影响,提高了系统透过率,且具有结构简单的特点。
搜索关键词: 光刻 照明 系统
【主权项】:
一种光刻照明系统,包括激光光源(1)、准直扩束单元(2)、光瞳整形单元(3)、第一微透镜阵列(4)、第二微透镜阵列(5)、聚光镜组(6)、、掩膜(9)、其特征在于还有微扫描狭缝阵列(7)、运动控制单元(10)和微积分棒阵列(11),上述元部件的位置关系是:激光光源(1)出射的激光束依次经过所述的准直扩束单元(2)、光瞳整形单元(3)、第一微透镜阵列(4)、微积分棒阵列(11)、微扫描狭缝阵列(7)、第二微透镜阵列(5)、聚光镜组(6)后照射到掩膜9上;所述的运动控制单元(10)与所述的微扫描狭缝阵列(7)相连,控制所述的微扫描狭缝阵列(7)的移动速度与行程,扫描相应的光场;所述的第一微透镜阵列(4)处于所述的光瞳整形单元(3)的出瞳面;所述的微积分棒阵列(11)的入射端面位于第一微透镜阵列(4)的后焦面;微积分棒阵列(11)的出射端面处于第二微透镜阵列(5)的前焦面;第二微透镜阵列(5)的后焦面与掩膜(9)的位置相对于所述的聚光镜组(6)共轭,所述的第一微透镜阵列(4)由多个完全相同的第一微透镜(41)组成,所述的第二微透镜阵列(5)由多个完全相同的第二微透镜(51)组成,所述的微积分棒阵列(11)由多个完全相同的微积分棒(111)组成,所述的第一微透镜(41)、所述的微积分棒(111)和所述的第二微透镜(51)一一对应。
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