[发明专利]太阳能电池及其制造方法无效
| 申请号： | 201310004515.4 | 申请日： | 2013-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN103296136A | 公开（公告）日： | 2013-09-11 |
| 发明（设计）人： | 李成喆;李斗烈;金永镇;金英水;金泳秀;李东勋 | 申请（专利权）人： | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号： | H01L31/18 | 分类号： | H01L31/18;H01L31/068;H01L31/0352 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 郭鸿禧;罗延红 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种太阳能电池及其制造方法。制造太阳能电池的方法包括：在半导体基底上形成具有第一导电类型的掺杂部分；在半导体基底上生长氧化物层；在氧化物层中形成多个凹进部分；在半导体基底上进一步生长氧化物层；在半导体基底的与凹进部分对应的区域上形成具有第二导电类型的掺杂部分；形成电结合到具有第一导电类型的掺杂部分的第一导电电极；以及在半导体基底上形成电结合到具有第二导电类型的掺杂部分的第二导电电极，其中，具有第一导电类型的掺杂部分与具有第二导电类型的掺杂部分之间的间隙对应于通过进一步生长氧化物层形成的氧化物层的宽度。 | ||
| 搜索关键词： | 太阳能电池 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种制造太阳能电池的方法，所述方法包括：在半导体基底上形成具有第一导电类型的掺杂部分；在半导体基底上生长氧化物层；在氧化物层中形成多个凹进部分；在半导体基底上进一步生长氧化物层；在半导体基底的与凹进部分对应的区域上形成具有第二导电类型的掺杂部分；形成电结合到具有第一导电类型的掺杂部分的第一导电电极；以及在半导体基底上形成电结合到具有第二导电类型的掺杂部分的第二导电电极，其中，具有第一导电类型的掺杂部分与具有第二导电类型的掺杂部分之间的间隙对应于通过进一步生长氧化物层形成的氧化物层的宽度。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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