[实用新型]一种气体管路装置有效
申请号: | 201220587802.3 | 申请日: | 2012-11-08 |
公开(公告)号: | CN202898535U | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 陈平;鲁一能;何海涛;黄良吉 | 申请(专利权)人: | 上海神舟新能源发展有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 林君如 |
地址: | 201112 上海市闵行*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种气体管路装置,该气体管路装置为三段式结构,由主气路及两个支管气路构成,支管气路对称连接在主气路的两端,支管气路的端部通过封口螺丝封端。与现有技术相比,本实用新型提高机台所产硅片膜厚/折射率的片间均匀性性:支管气路增加了气孔,加强了对石墨框两边硅片的工艺影响,达到有效调节气量及均匀性的目的,另外还便于拆卸,延长气路使用寿命:封口螺丝采用外六角设计,易于用对应的开口扳手拆卸而不损伤管路。 | ||
搜索关键词: | 一种 气体 管路 装置 | ||
【主权项】:
一种气体管路装置,其特征在于,该气体管路装置为三段式结构,由主气路及两个支管气路构成,所述的支管气路对称连接在主气路的两端,支管气路的端部通过封口螺丝封端。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的