[实用新型]双轴研磨系统有效

专利信息
申请号: 201220424326.3 申请日: 2012-08-26
公开(公告)号: CN202725266U 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 向小月 申请(专利权)人: 向小月
主分类号: B02C17/16 分类号: B02C17/16;B02C17/18;B02C17/24
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 441700 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型公开一种双轴研磨系统,包括在中空分离轴内设有中空分离轴,该分离轴和分离轴一端分别与分散器和分离器连接;在筒盖与离轴之间设有两个第一密封结构,在分离轴与分离轴之间设有两个第二密封结构,位于两个第一密封结构之间的筒盖上设有第一筒盖导孔和第二筒盖导孔,两个第二密封结构之间的分散轴上设有第一分散轴导孔和第二分散轴导孔,内壁呈山字型的第一筒体与呈筒状的分散器和沿轴向剖视呈梯形的分离器配合。工作时,呈山字型的第一筒体与分散器和分离器的作用下运动,使物料和研磨球在有较小的空间内保持较高的运动速度,同时使研磨物料能按强制的方向流动,减少物料和研磨球运动的路径长度,增加物料与研磨球接触机会,进而提高研磨效率。
搜索关键词: 研磨 系统
【主权项】:
双轴研磨系统,包括第一筒体和与该第一筒体连接的筒盖,其特征在于:该筒盖与中空分散轴转动连接,在该分散轴内设有中空分离轴,该分散轴和分离轴一端分别与驱动电机传动连接,另一端分别与分散器和分离器连接;在筒盖与分散轴之间设有两个第一密封结构,在分散轴与分离轴之间设有两个第二密封结构,其中,位于两个第一密封结构之间的筒盖上设有第一筒盖导孔和第二筒盖导孔,在两个第二密封结构之间的分散轴上设有第一分散轴导孔和第二分散轴导孔;内壁呈山字型的第一筒体与呈筒状的分散器和沿轴向剖视呈梯形的分离器配合。
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