[实用新型]真空清洗装置有效
| 申请号： | 201220322883.4 | 申请日： | 2012-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN202823972U | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 平本升;三塚正敏;小西博之 | 申请（专利权）人： | 株式会社IHI;IHI机械系统股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 崔幼平;杨楷 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本实用新型的真空清洗装置具备：生成石油系溶剂的蒸气的蒸气生成机构，能够通过从上述蒸气生成机构供给的蒸气在减压下对工件进行清洗的清洗室，与上述清洗室相连并保持减压状态的冷凝室，将上述冷凝室保持在温度低于上述清洗室的温度保持机构，以及使上述冷凝室与上述清洗室连通或者隔断该连通的开闭机构。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种真空清洗装置，其特征在于，具备：生成石油系溶剂的蒸气的蒸气生成机构，能够通过从上述蒸气生成机构供给的蒸气在减压下对工件进行清洗的清洗室，与上述清洗室相连并保持减压状态的冷凝室，将上述冷凝室保持在温度低于上述清洗室的温度保持机构，使上述冷凝室与上述清洗室连通或者隔断该连通的开闭机构。
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