[实用新型]PECVD载板导轨有效
申请号: | 201220308304.0 | 申请日: | 2012-06-28 |
公开(公告)号: | CN202688434U | 公开(公告)日: | 2013-01-23 |
发明(设计)人: | 尤耀明;代宁 | 申请(专利权)人: | 无锡绿波新能源设备有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所 32104 | 代理人: | 曹祖良 |
地址: | 214092 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种用于光伏行业的PECVD载板导轨,包括长方体形状的导轨本体,所述导轨本体的材料为不锈钢,直接固定在载板上,所述导轨本体沿长度方向的上下两个平面上开有贯穿的多个螺丝孔,所述导轨本体沿长度方向的左右两个侧面上开有多个凹槽。本实用新型直接固定在载板上,为一体式导轨,提高了导轨本身的精度与导轨的安装精度;导轨材料采用不锈钢,大幅提高了寿命和导轨的维护成本;导轨两侧面加工的凹槽可降低导轨的重量。 | ||
搜索关键词: | pecvd 导轨 | ||
【主权项】:
一种PECVD载板导轨,包括长方体形状的导轨本体(4),其特征是:所述导轨本体(4)的材料为不锈钢,直接固定在载板(1)上,所述导轨本体(4)沿长度方向的上下两个平面上开有贯穿的多个螺丝孔(5),所述导轨本体(4)沿长度方向的左右两个侧面上开有多个凹槽(6)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的