[实用新型]应用于步进光刻设备中的阻尼系统有效
| 申请号： | 201220169254.2 | 申请日： | 2012-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN202661774U | 公开（公告）日： | 2013-01-09 |
| 发明（设计）人： | 彭绍辉 | 申请（专利权）人： | 彩虹(佛山)平板显示有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 田洲 |
| 地址： | 528300 广东省佛*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种应用于步进光刻设备中的阻尼系统，包括光学元件、内部支架、第一阻尼环和第二阻尼环；光学元件固定在内部支架上；内部支架设置于第一阻尼环上，第一阻尼环设置于第二阻尼环上；第二阻尼环的顶部设有环形凸起，第一阻尼环的底部设有容纳环形凸起的环形槽，环形凸起与环形槽之间形成间隙。本实用新型通过在第一阻尼环的凹槽与第二阻尼环的凸起之间的间隙内填充有粘性阻尼流体；如果第二阻尼环相对于第一阻尼环移动，那么阻尼流体流过间隙且对此的阻力提供第二阻尼环相对于第一阻尼环的移动的阻尼，光学元件相对于其安装到的部位的运动也被阻尼；以使光学元件在生产过程中具有更强的抗震能力，来保证光刻精度的提高。 | ||
| 搜索关键词： | 应用于 步进 光刻 设备 中的 阻尼 系统 | ||
【主权项】：
一种应用于步进光刻设备中的阻尼系统，其特征在于，包括光学元件(1)、内部支架(2)、第一阻尼环(3)和第二阻尼环(4)；光学元件(1)固定在内部支架(2)上；内部支架(2)设置于第一阻尼环(3)上，第一阻尼环(3)设置于第二阻尼环(4)上；第二阻尼环(4)的顶部设有环形凸起(6)，第一阻尼环(3)的底部设有容纳环形凸起(6)的环形槽(7)，环形凸起(6)与环形槽(7)之间形成间隙(5)。
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