[发明专利]多垫式化学机械研磨装置有效
申请号: | 201210593395.1 | 申请日: | 2012-12-31 |
公开(公告)号: | CN103909466A | 公开(公告)日: | 2014-07-09 |
发明(设计)人: | 唐强;汪坚俊 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B24B37/22 | 分类号: | B24B37/22;B24B37/26 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种多垫式化学机械研磨装置,所述多垫式化学机械研磨装置包括研磨平台和研磨垫组,所述研磨垫组固定在所述研磨平台上,所述研磨垫组包括多个嵌合在一起的研磨垫。本发明多垫式化学机械研磨装置采用多个研磨垫结构,研磨垫之间相互嵌合,采用这种结构使得研磨垫能够实现快速更换。进一步的,所述多垫式化学机械研磨装置包括高度调整装置,能够自动调整研磨垫高度,提高了化学机械研磨设备的工作效率。 | ||
搜索关键词: | 多垫式 化学 机械 研磨 装置 | ||
【主权项】:
一种多垫式化学机械研磨装置,其特征在于,包括:研磨平台和研磨垫组;所述研磨垫组固定在所述研磨平台上;所述研磨垫组包括多个嵌合在一起的研磨垫。
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