[发明专利]一种等离子体装置

摘要

本发明公开一种等离子体装置，包括电感耦合线圈，所述电感耦合线圈通过匹配器与射频源相连接，所述电感耦合线圈用于在工艺过程中激发等离子体，所述刻蚀包括工艺气体不同的N个工艺步骤，所述电感耦合线圈包括至少两组线圈；通过至少两组线圈构成N种线圈组合；其中，每种线圈组合由至少两组线圈中的部分或全部构成，且所述N种线圈组合的构成各不相同；所述N种线圈组合与所述N个工艺步骤分别对应；通过射频源选择性地连接至所述N种线圈组合中的一个，以进行与所述各个线圈组合相对应的工艺步骤。通过该等离子体装置，根据不同的工艺气体使用不同的线圈结构激发等离子体，以提高等离子体分布强度的均匀性，从改善等离子工艺的工艺效果。

主权项

一种等离子体装置，包括反应腔室、射频源、匹配器、位于所述反应腔室内的静电卡盘、以及位于所述反应腔室上方的电感耦合线圈，所述电感耦合线圈通过匹配器与射频源相连接，所述电感耦合线圈用于在工艺过程中激发等离子体，以对固定于所述静电卡盘上的工件进行等离子工艺，其特征在于，所述等离子体工艺包括分别采用不同工艺气体的N个工艺步骤，N为大于或等于2的整数，所述电感耦合线圈包括至少两组直径不同且相互嵌套的线圈；通过至少两组线圈构成N种线圈组合；其中，每种线圈组合由至少两组线圈中的部分或全部构成，且所述N种线圈组合的构成各不相同；所述N种线圈组合与所述N个工艺步骤分别一一对应；根据当前工艺步骤中采用的工艺气体的分布特点，射频源选择性地连接至所述N种线圈组合中的一种线圈组合，以进行与所述工艺气体相对应的工艺步骤。