[发明专利]薄膜沉积设备及使用该薄膜沉积设备的薄膜沉积方法有效
申请号: | 201210583872.6 | 申请日: | 2012-12-28 |
公开(公告)号: | CN103184431B | 公开(公告)日: | 2017-05-03 |
发明(设计)人: | 李勇锡;许明洙;赵喆来;洪祥赫;李正浩;郑石源;金善浩;安美罗 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/455;C23C14/22 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 | 代理人: | 刘灿强,全成哲 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开了一种薄膜沉积设备和使用该薄膜沉积设备的薄膜沉积方法。该薄膜沉积设备包括室,被构造成具有安装在所述室中的基底;喷射单元,被构造成在室中移动且向基底喷射沉积蒸汽;以及源供应单元,被构造成向喷射单元供应沉积蒸汽的源。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 沉积 设备 使用 方法 | ||
【主权项】:
一种薄膜沉积设备,所述薄膜沉积设备包括:室,被构造成具有安装在所述室中的基底;喷射单元,被构造成在室中移动且向基底喷射沉积蒸汽;以及源供应单元,被构造成向喷射单元供应包括液态单体和惰性气体的沉积蒸汽的源并且包括被构造成储存并供应液态单体的单体供应单元以及被构造成储存并供应惰性气体的载气供应单元,惰性气体作为单体的载气与单体混合,其中,单体供应单元包括多个注射泵和单体储存器,多个注射泵被构造成向喷射单元交替地供应单体,单体储存器可拆卸地连接到注射泵并被构造成储存单体,其中,喷射单元包括:面对基底的喷射部,其中,加热器被构造成汽化喷射部处的所述源;第一供应线,用于连接单体供应单元和喷射部;第二供应线,用于连接载气供应单元和喷射部;压力传感器,被构造成测量与单体对应的压力并位于第一供应线处;第三供应线,将第一供应线和第二供应线连接,第三供应线被构造成当压力传感器测得低于正常范围的压力时使得载气进入第一供应线;第一流速控制器,在第一供应线处,用于控制向喷射部供应的单体的量;以及第二流速控制器,在第二供应线处,用于控制向喷射部供应的载气的量。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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