[发明专利]调节真空设备中待制器件温度的控制方法及其实现装置有效
申请号: | 201210583059.9 | 申请日: | 2012-12-27 |
公开(公告)号: | CN103076822A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 熊笔锋;马宏;王宏臣;江斌;杨秀武 | 申请(专利权)人: | 烟台睿创微纳技术有限公司 |
主分类号: | G05D23/00 | 分类号: | G05D23/00 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 杨立 |
地址: | 264006 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明涉及一种调节真空设备中待制器件温度的温度控制方法及其实现装置,本装置包括定位装置、加热装置和降温装置,定位装置用于待制器件的定位和安装,加热装置位于定位装置和降温装置之间。定位装置上设有大小和结构与待制器件相匹配的定位槽;加热装置中设有隧道孔,隧道孔中安装有加热器件,加热器件的电极互相并联连接或串联连接;降温装置中设有液态冷却媒质通道,并设有两个液态冷却媒质接口。本装置也可将定位装置、加热装置和降温装置设计为一体化结构。本发明将升温装置和降温装置巧妙结合为一体,高效实现真空设备中待制器件升降温的精确温度控制,最大效能地利用加热装置能量,并且降低了加热装置与降温装置之间热通路上的热阻。 | ||
搜索关键词: | 调节 真空设备 待制 器件 温度 控制 方法 及其 实现 装置 | ||
【主权项】:
一种用于真空设备中调节待制器件温度的温度控制装置,其特征在于,包括定位装置、加热装置和降温装置,所述定位装置用于待制器件的定位和安装,所述定位装置位于加热装置上,所述加热装置位于降温装置上。
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