[发明专利]自动曝光控制的实现方法

摘要

本发明公开一种自动曝光控制的实现方法，其包括将控制电离室曝光量的输出电压依次经过模拟开关电路、采样保持电路和A/D电路后输入控制器；由控制器将输入电压与基准曝光电压经D/A电路输出并由比较电路进行比较，当两者数值相等时，中止曝光以实现AEC反馈回路的控制。其中，控制器采用FPGA芯片实现。本发明运用FPGA实现数字积分，控制曝光量的电压Vi转化的数字量与FPGA内部设置基准值经D/A芯片输出并进行比较，当两者数值相等时，截止逆变高压，中止曝光，实现AEC反馈回路的控制。

主权项

一种自动曝光控制的实现方法，其特征在于，包括：将控制电离室曝光量的输出电压依次经过模拟开关电路、采样保持电路和A/D电路后输入控制器；由控制器将输入电压与基准曝光电压经D/A电路输出并由比较电路进行比较，当两者数值相等时，中止曝光以实现AEC反馈回路的控制；所述A/D电路使用过零点检测的方法对采样周期进行自适应调整；所述过零点检测的方法为：首先采集100个数据，计算其平均值，作为输出电压的平均值的估计值；再采样100个数据，由比较电路与输出电压的平均值的估计值进行比较，计算过零点的数量并统计；根据此数量，调整采样周期，当此数量大于20个时，令采样周期为1ms，当此数量不大于10时，令采样周期为5ms，其他令采样周期为2ms。