[发明专利]一种低温多晶硅薄膜晶体管及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201210562443.0 申请日: 2012-12-21
公开(公告)号: CN103022355A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 葛泳;邱勇;黄秀颀;刘玉成;朱涛 申请(专利权)人: 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/10;H01L51/40
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 程殿军
地址: 215300 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种低温多晶硅薄膜晶体管及其制作方法,该低温多晶硅薄膜晶体管包括开关薄膜晶体管与驱动薄膜晶体管,该驱动薄膜晶体管的结构由下至上依次为缓冲层、多晶硅、栅极绝缘层、栅极、介电层与钝化层,并在介电层以及绝缘层之内分别形成源极接触孔以及漏极接触孔,在源极接触孔与漏极接触孔上分别形成源极与漏极;在驱动薄膜晶体管的漏极区形成导通孔用以连接驱动有机发光器件发光的阳极材料,并在栅极和多晶硅交叠区的上方形成钝化层开孔。本发明可使同一片基板上的开关TFT和驱动TFT具有不同的S因子。
搜索关键词: 一种 低温 多晶 薄膜晶体管 及其 制作方法
【主权项】:
一种低温多晶硅薄膜晶体管,其特征在于,其包括开关薄膜晶体管与驱动薄膜晶体管,该驱动薄膜晶体管的结构为:其底部为缓冲层,该缓冲层上设有多晶硅,该多晶硅与缓冲层上包覆有栅极绝缘层,该栅极绝缘层上设有栅极,该栅极与栅极绝缘层上包覆有介电层,并在介电层以及绝缘层之内分别形成源极接触孔以及漏极接触孔,在源极接触孔与漏极接触孔上分别形成源极与漏极,在驱动薄膜晶体管的最上方设有包覆源极、漏极与介电层的钝化层;该驱动薄膜晶体管的漏极区形成导通孔用以连接驱动有机发光器件发光的阳极材料,并在栅极和多晶硅交叠区的上方形成钝化层开孔。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司,未经昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210562443.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top