[发明专利]掩模板、曝光设备最佳焦距的监控方法

摘要

一种掩模板、最佳焦距的监控方法，其中，所述掩模板包括基板；位于基板上的监控图形，所述监控图形包括正方形本体和位于正方形本体的四周侧壁的矩形凸起部，所述矩形凸起部为若干平行的光栅条。采用所述掩模板进行最佳焦距的监控时，提高了监控的精度。

主权项

一种曝光设备最佳焦距的监控方法，其特征在于，包括：提供具有监控图形的掩模板，所述掩模板包括基板；位于基板上的监控图形，所述监控图形包括正方形本体和位于正方形本体的四周侧壁的矩形凸起部，所述矩形凸起部为若干平行的光栅条；提供待曝光晶圆，所述待曝光晶圆上形成有光刻胶层；对待曝光晶圆进行曝光之前，对曝光设备进行自动校准，获得曝光设备的第一最佳焦距；以不同的焦距对所述待曝光晶圆进行曝光形成若干个曝光区，将掩模板上的监控图形转移到每一个曝光区，在每一个曝光区形成相应的光刻胶图形；测量每一个曝光区中光刻胶图形的特征尺寸，获得特征尺寸最大值，对特征尺寸最大值对应的曝光区进行曝光时的焦距作为第二最佳焦距；获得第一最佳焦距和第二最佳焦距的差值，所述差值作为焦距的偏移值，若焦距的偏移值位于偏移值的基准阈值范围内时，则曝光设备聚焦稳定，若否，则曝光设备的聚焦不稳定，其中，所述偏移值的基准阈值范围为：偏移值的基准值‑(0.5～2)×偏移值的基准值～偏移值的基准值+(0.5～2)×偏移值的基准值。