[发明专利]一种硅酸锆陶瓷研磨介质及其制备方法无效
| 申请号： | 201210555149.7 | 申请日： | 2012-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN103011787A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 刘永胜 | 申请（专利权）人： | 淄博和润研磨材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/16 | 分类号： | C04B35/16;C09K3/14;C04B35/622 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 255086 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明具体涉及一种硅酸锆陶瓷研磨介质及其制备方法，研磨介质的特征在各原料组分的重量百分比如下：锆英砂60％～65％；氧化铝6％～13％；硅微粉6％～10％；滑石4％～8％；二氧化钛2％～4％；高岭土10％～12％；稳定剂1％～2％，制备方法的步骤如下：1)将各原料湿法混合，水份控制在30％～35％，研磨至D90＜2μm；2)加入稳定剂后放置2～4h；3)料浆通过离心式造粒，使其颗粒尺寸150目以下占到80％以上；4)滚动成型；5)干燥；6)抑晶烧结，保温时间＜1h，以后强制冷却，使其在1-1.5h内降至1000℃以下。本发明具有成本低、硬度高、磨损率低的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅酸 陶瓷 研磨 介质 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种硅酸锆陶瓷研磨介质，其特征在各原料组分的重量百分比如下：锆英砂 60％～65％；氧化铝 6％～13％；硅微粉 6％～10％；滑石 4％～8％；二氧化钛 2％～4％；高岭土 10％～12％；稳定剂 1％～2％。
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