[发明专利]触控电极结构及其制造工艺

摘要

一种触控电极结构的制造工艺，包括步骤S1形成电极层于基板上；S2形成第一防蚀刻光学层；S3蚀刻电极层，位于非蚀刻区的电极层包含两个以上的沿第一方向排列的第一电极块，相邻的第一电极块通过一第一导线电性连接；两个以上的沿第二方向排列的第二电极块，第二电极块分别设置于该第一导线两侧；S4形成第二防蚀刻光学层，对应于各第二电极块上的第二防蚀刻光学层形成有镂空区域；S5蚀刻镂空区域处的第一防蚀刻光学层，形成贯穿孔；S6形成一线路层，线路层位于第二防蚀刻光学层上，且通过镂空区域与贯穿孔电性连接相邻的第二电极块。采用上述工艺形成的触控电极结构，具有更好的视觉效果，且制程时间短，工艺效率高。

主权项

一种触控电极结构的制造工艺，其特征在于，包括步骤：S1：形成一电极层于一基板上；S2：形成一第一防蚀刻光学层于该电极层上；S3：蚀刻未被该第一防蚀刻光学层遮挡的该电极层，经蚀刻后的该电极层分为一蚀刻区与一非蚀刻区，且位于该非蚀刻区的电极层包含：至少两个以上的沿第一方向排列的第一电极块，相邻的该些第一电极块通过一第一导线电性连接；至少两个以上的沿第二方向排列的第二电极块，该些第二电极块分别设置于该第一导线两侧；S4：形成一第二防蚀刻光学层于该第一防蚀刻光学层和该基板上，且对应于各第二电极块上的该第二防蚀刻光学层形成有镂空区域；S5：蚀刻该镂空区域处的该第一防蚀刻光学层，形成贯穿孔贯穿该第一防蚀刻光学层；S6：形成一线路层，该线路层位于该第二防蚀刻光学层上，且通过该镂空区域与该贯穿孔电性连接相邻的第二电极块；通过调节该第一防蚀刻光学层、该第二防蚀刻光学层的折射率，减轻蚀刻后该蚀刻区与该非蚀刻区存在的外观差异。