[发明专利]能产生气幕的气体喷洒装置及其薄膜沉积装置

摘要

本发明公开了一种能产生气幕的气体喷洒装置，包括一第一喷洒单元以及一第二喷洒单元。该第一喷洒单元提供喷洒一反应气体以形成一工艺气体区。该第二喷洒单元环设于该第一喷洒单元周围，该第二喷洒单元具有一缓冲气供应腔与一板体。该缓冲气供应腔提供一缓冲气体。该板体环设于该第一喷洒单元周围，且具有多个通孔，以提供该缓冲气体通过产生包围在该反应气体外围的一气幕。利用该能产生气幕的气体喷洒装置，在另一实施例中，本发明还提供一种薄膜沉积装置，通过该气幕避免真空负压对反应气体直接影响，以延长反应气体滞留时间，而提高气体使用率与镀膜效率。

主权项

一种能产生气幕的气体喷洒装置，包括：一第一喷洒单元，用以提供喷洒一反应气体，以形成一工艺气体区；以及一第二喷洒单元，其环设于该第一喷洒单元周围，该第二喷洒单元还具有：一缓冲气供应腔，用以提供一缓冲气体；以及一气幕分布板，其与该缓冲气供应腔连接且环设于该第一喷洒单元周围，该气幕分布板上具有多个通孔，以提供该缓冲气体通过产生包围该工艺气体区外围的一气幕。