[发明专利]一种用于光刻设备的自参考干涉对准信号处理系统有效
| 申请号： | 201210530461.0 | 申请日： | 2012-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN103869628A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 李运锋 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种用于光刻设备的自参考干涉对准信号处理系统，包括：激光光源模块，用于提供照明光束；光学模块，用于将来自标记衍射的光束进行光学处理，形成衍射光学信号；电子采集模块，用于将所述光学信号进行处理，获得光强信号；软件模块，用于对所述光强信号进行处理，并结合工件台位置数据，获得对准位置，消除光学噪声；其特征在于，所述电子采集模块中或者所述软件模块还包括一归一化处理单元。本发明综合利用两个光学通道中的光强信号，通过对对准信号进行归一化，提高对准信号的质量。消除或降低了照明光源的光强波动对信号的影响，提高了对准信号的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光刻 设备 参考 干涉 对准 信号 处理 系统 | ||
【主权项】：
一种用于光刻设备的自参考干涉对准信号处理系统，包括：激光光源模块，用于提供照明光束；光学模块，用于将来自标记衍射的光束进行光学处理，形成衍射光学信号；电子采集模块，用于将所述光学信号进行处理，获得光强信号；软件模块，用于对所述光强信号进行处理，并结合工件台位置数据，获得对准位置，消除光学噪声； 其特征在于，所述电子采集模块中或者所述软件模块还包括一归一化处理单元。
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