[发明专利]激光隔离高效晶体硅太阳电池的生产工艺有效
申请号: | 201210525427.4 | 申请日: | 2012-12-07 |
公开(公告)号: | CN102969401A | 公开(公告)日: | 2013-03-13 |
发明(设计)人: | 梁兴芳;冯强;王步峰 | 申请(专利权)人: | 润峰电力有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;B23K26/36 |
代理公司: | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人: | 杨琪 |
地址: | 277600 山东省济宁市微山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明涉及一种激光隔离高效晶体硅太阳电池的生产工艺,包括步骤如下:制绒、扩散,用光纤激光对扩散后的硅片表面进行划线刻槽实现PN隔离,清洗去除机械损伤层和扩散遗留的PSG,沉积氮化硅,然后丝网印刷烧结。本发明通过改变传统的激光PN隔离工艺流程,将激光隔离PN的工艺在扩散之后完成,可以精确控制刻蚀边缘,完全摆脱湿法刻蚀和传统的激光刻蚀工艺的缺陷,提高太阳电池的光电转换效率和产品的合格率。 | ||
搜索关键词: | 激光 隔离 高效 晶体 太阳电池 生产工艺 | ||
【主权项】:
激光隔离高效晶体硅太阳电池的生产工艺,其特征是,包括步骤如下:制绒、扩散,用光纤激光对扩散后的硅片表面进行划线刻槽实现PN隔离,清洗去除机械损伤层和扩散遗留的磷硅玻璃,沉积氮化硅,然后丝网印刷烧结。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的