[发明专利]放射线敏感性组合物

摘要

本发明提供了含有高灵敏度、高分辨力、高耐蚀刻性、低逸气量、以及得到的抗蚀图形的形状良好的抗蚀剂化合物的放射线敏感性组合物；以及使用该放射线敏感性组合物的抗蚀图形的形成方法；以及光学特性和耐蚀刻性良好的、而且实质上无升华物的用于形成新的光刻胶下层膜的组合物及由其形成的下层膜。该放射线敏感性组合物含有具有特定结构的环状化合物和溶剂，所述环状化合物为通过醛类化合物A1和酚类化合物A2的缩合反应而合成的分子量为700-5000的环状化合物A，其中所述醛类化合物A1为碳原子数为2-59且具有1-4个甲酰基的化合物，所述酚类化合物A2为碳原子数为6-15且具有1-3个酚羟基的化合物。还提供了用于该组合物的环状化合物。

主权项

1.一种环状化合物，其中，该环状化合物为下述式（33-1）、式（33-2）、式（33-0-1）或式（33-0-2）所表示的化合物，式（33-1）以及式（33-2）中，R^3A为选自由碳原子数为2-20的取代甲基、碳原子数为3-20的1-取代乙基、碳原子数为4-20的1-取代正丙基、碳原子数为1-20的甲硅烷基、碳原子数为2-20的酰基、碳原子数为2-20的1-取代烷氧基烷基、碳原子数为2-20的环醚基、碳原子数为2-20的烷氧羰基以及碳原子数为2-20的烷氧羰基烷基所组成的组中的酸解离性官能团；X₂为氢或卤素原子；L₁为选自单键、碳原子数为1-4的直链状或支链状的亚烷基中的二价的有机基团；l₁为0或1；式（33-0-1）以及式（33-0-2）中，R^3A、X₂、L₁和l₁与上述相同；m为1-4的整数；m₃为1或2；m₄为1。