[发明专利]一种低光泽度酸腐片的加工方法

摘要

本发明涉及一种低光泽度酸腐片的加工方法。其工艺是：1.将酸腐片双面去除量控制在32±2μm；酸腐蚀液寿命为30000～50000标片；2.配制酸腐蚀液：氢氟酸7.06～8.07%，硝酸40.5～42.2%，醋酸22.67～27.96%，加去离子水混合；3.酸腐蚀液的温度保持在30-40℃；4.每腐蚀50片，酸腐蚀液排出量和补充量为酸腐蚀液总量的0.75%～1.25%；5.采用机械手摇动，以降低局部腐蚀温度。在保证腐蚀酸腐片去除量的前提下，通过控制酸腐蚀液的浓度和寿命以及降低局部腐蚀温度等工艺来降低酸腐片的表面光泽度，所获得酸腐片的表面光泽度达到10-25GS，从而满足客户对低光泽度腐蚀片的需求。同时通过采用该工艺，硅片外观看起来不“刺眼”，有利于产品良率的提高，从而实现了低光泽度酸腐片的量产。

主权项

一种低光泽度酸腐片的加工方法，其特征在于：包括如下工艺： （一）.将酸腐片双面去除量控制在32±2μm；酸腐蚀液寿命为30000～50000标片；（二）.酸腐蚀液的配制：各化学成分所占浓度百分比为：氢氟酸：7.06～8.07%，硝酸：40.5～42.2%，醋酸：22.67～27.96%，加去离子水混合而成；（三）.在加工酸腐片过程中，酸腐蚀液的温度保持在30‑40℃范围内；（四）.每腐蚀50片酸腐片之后，排出一部分酸腐蚀液，每次排出量为酸腐蚀液总量的0.75%～1.25%，然后，再补充同等数量酸腐蚀液来维持酸腐蚀液浓度的动态平衡；（五）.在腐蚀过程中，采用机械手摇动，使腐蚀时聚集在酸腐片表面的热量及时排出，以降低局部腐蚀温度，进而降低酸腐片的光泽度。