[发明专利]一种光电元件的客制化制造方法有效
| 申请号： | 201210490858.1 | 申请日： | 2008-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN102945005A | 公开（公告）日： | 2013-02-27 |
| 发明（设计）人： | 谢明勋 | 申请（专利权）人： | 晶元光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G05B19/04 | 分类号： | G05B19/04;G05B19/418 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 史新宏 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明揭露一种光电元件的客制化制造方法。此客制化制造方法包含提供一生产流程，包含一前段流程、一客制化模块接续此前段流程、以及一寄存步骤介于此前段流程及此客制化模块之间；并且依前段流程生产一预定数量的半成品暂停于此寄存步骤；以及依据一客户要求以调制该客制化模块使符合该客户要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光电 元件 客制化 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光电元件的制造方法，包含：提供一前段流程，该前段流程包含：提供一成长基板；在该成长基板上形成一磊晶迭层以形成一半成品元件，该半成品元件具有一光电特性及一客制化参数；及测试该半成品元件的光电特性；提供一暂存步骤，该暂存步骤包含：保留该半成品元件；及提供一客制化模块，该客制化模块包含：依一客户要求对该半成品元件调整该客制化参数。
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