[发明专利]消除电容式触摸屏蚀刻残留溶液的方法有效
申请号: | 201210474009.7 | 申请日: | 2012-11-21 |
公开(公告)号: | CN102921666A | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
发明(设计)人: | 池荣军 | 申请(专利权)人: | 南京华显高科有限公司 |
主分类号: | B08B3/08 | 分类号: | B08B3/08 |
代理公司: | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人: | 夏平;瞿网兰 |
地址: | 210061 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种消除电容式触摸屏蚀刻残留溶液的方法,其特征是它包括以下步骤:首先,将经过刻蚀的触摸屏挂置于支架上,并在90秒内将支架放入装有清洗液的浸泡箱中,浸泡箱中的清洗液的液面应高出触摸屏的有效工作区域;其次,触摸屏在浸泡箱中浸泡25~35分钟后取出凉干进入下一道工序;所述的清洗液的由重量百分比为:0.8~1%的HCl,0.05%~0.07%的HNO3和余量的去离子水配制而成。本发明能消除刻蚀过程中的残留溶液,保证产品质量,确保后续工序的正常进行。 | ||
搜索关键词: | 消除 电容 触摸屏 蚀刻 残留 溶液 方法 | ||
【主权项】:
一种消除电容式触摸屏蚀刻残留溶液的方法,其特征是它包括以下步骤: 首先,将经过刻蚀的触摸屏挂置于支架上,并在90秒内将支架放入装有清洗液的浸泡箱中,浸泡箱中的清洗液的液面应高出触摸屏的有效工作区域; 其次,触摸屏在浸泡箱中浸泡25~35分钟后取出立即进入下一道工序;所述的清洗液的由重量百分比为:0.8~1%的HCl,0.05%~0.07%的HNO3和余量的去离子水配制而成。
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