[发明专利]成像光学系统在审
| 申请号： | 201210469736.4 | 申请日： | 2009-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN102937742A | 公开（公告）日： | 2013-02-20 |
| 发明（设计）人： | 汉斯-于尔根.曼;阿明.舍帕克;约翰尼斯.泽尔纳 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B17/06 | 分类号： | G02B17/06;G02B26/06;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有多个反射镜（M1至M6）的成像光学系统（7；31），其将物平面（5）中的物场（4）成像到像平面（9）中的像场（8）。所述成像光学系统（7；31）具有与第一反射镜（M5）间隔开的另外的可变形反射镜（M3），所述第一反射镜（M5）最紧邻两个场（4、8）中的一个并被指定为相邻反射镜，所述可变形反射镜（M3）被布置于与所述成像光学系统（7；31）中的所述相邻反射镜的布置平面光学共轭的平面中。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 光学系统 | ||
【主权项】：
具有多个反射镜（M1至M6）的成像光学系统（7；31），其将物平面（5）中的物场（4）成像到像平面（9）中的像场（8），其特征在于：所述成像光学系统（7；31）具有与第一反射镜（M5）间隔开的另外的可变形反射镜（M3），所述第一反射镜（M5）最紧邻两个场（4、8）中的一个并被指定为相邻反射镜，所述可变形反射镜（M3）被布置于与所述成像光学系统（7；31）中的所述相邻反射镜的布置平面光学共轭的平面中。
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