[发明专利]一种基于长周期深刻蚀槽光栅的波长可调谐激光器无效

专利信息
申请号: 201210462901.3 申请日: 2012-11-16
公开(公告)号: CN102931581A 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 王寅;杨友光;何建军 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: H01S5/125 分类号: H01S5/125
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 周烽
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种基于长周期深刻蚀槽光栅的波长可调谐激光器,它包括深刻蚀反射面、第一深刻蚀槽光栅区、第二深刻蚀槽光栅区和输出波导;第一深刻蚀槽光栅区与第二深刻蚀槽光栅区由深刻蚀槽构成,两个区域具有不同的光栅周期并分别被两块独立电极覆盖,通过调节两个电极的注入电流可以实现波长;激光器制作在半导体外延片上,从下往上分别包括下包层,量子阱层和上包层以及以上所述各层之间的一些辅助层;本发明操作简便,能够实现单电极调谐信道;可应用于集成光路器件。
搜索关键词: 一种 基于 周期 深刻 光栅 波长 调谐 激光器
【主权项】:
一种基于长周期深刻蚀槽光栅的波长可调谐激光器,特征在于,它主要由一体形成的深刻蚀反射面(9)、第一深刻蚀槽光栅区(7)、第二深刻蚀槽光栅区(8)和输出波导(10)等组成;所述的第一深刻蚀槽光栅区(7)和第二深刻蚀槽光栅区(8)分别由1~3个深刻蚀槽构成,每个深刻蚀槽的宽度是四分之一激光器中心波长的整数倍;所述的第一深刻蚀槽光栅区(7)和第二深刻蚀槽光栅区(8)具有不同的光栅周期,并分别被第一深刻蚀槽光栅区电极(70)和第一深刻蚀槽光栅区电极(80)覆盖,可以通过向第一深刻蚀槽光栅区电极(70)或第一深刻蚀槽光栅区电极(80)注入电流来调谐激光器的波长;所述激光器制作在半导体外延片上,从下往上生长下包层(11)、量子阱层(12)、上包层(13)以及上述各层之间的辅助层(14);所述第一深刻蚀槽光栅区(7)、第二深刻蚀槽光栅区(8)和深刻蚀反射面(9)的刻蚀深度均到达下包层(11)。
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