[发明专利]外延生长设备有效
| 申请号： | 201210444086.8 | 申请日： | 2012-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN103806094A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 董志清 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | C30B25/10 | 分类号： | C30B25/10;C30B25/08 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种外延生长设备，其包括反应腔室和加热单元，其中，反应腔室的腔室侧壁采用石英制作；加热单元围绕在腔室侧壁的外侧，并透过腔室侧壁朝向反应腔室的内部辐射热量。本发明提供的反应腔室，其可以提高反应腔室的温度分布均匀性，从而可以提高工艺的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 外延 生长 设备 | ||
【主权项】：
一种外延生长设备，其包括反应腔室和加热单元，其特征在于，所述反应腔室的腔室侧壁采用石英制作，所述加热单元围绕在所述腔室侧壁的外侧，并透过所述腔室侧壁朝向所述反应腔室的内部辐射热量。
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