[发明专利]一种医用成像材料及其制备方法和应用无效
| 申请号： | 201210443008.6 | 申请日： | 2012-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN103007295A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 邢怀勇;步文博;施剑林 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
| 主分类号： | A61K49/00 | 分类号： | A61K49/00;A61K49/06;A61K49/12 |
| 代理公司： | 上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙) 31258 | 代理人： | 何葆芳 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种医用成像材料及其制备方法和应用。所述材料是由Tm3+离子掺杂的NaYbF4基材料经巯基PEG亲水改性而得，记为：NaYbF4:Tm3+@PEG。该材料是先采用高温热解法制备NaYbF4:Tm3+疏水纳米颗粒，然后进行巯基PEG亲水改性制备而得。本发明提供的医用成像材料可应用于CT成像或/和近红外荧光成像，且成像效果好，灵敏度高，具有细胞低毒性。而且可通过Gd3+离子的共掺杂，实现近红外荧光、CT和核磁MR的协同成像，属于一种多模式成像技术，对于医学诊断技术的发展和应用具有重要价值和意义。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 医用 成像 材料 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种医用成像材料，其特征在于：所述材料是由Tm3+离子掺杂的NaYbF4基材料NaYbF4:Tm3+经巯基PEG亲水改性而得，记为：NaYbF4:Tm3+@PEG。
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